Atomic-Scale Removal Mechanisms during Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride Assisted by OH Radicals: Computational Chemistry Approach
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OH自由基辅助氮化镓化学机械抛光过程中的原子尺度去除机制：计算化学方法
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Momoji Kubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kentaro Kawaguchi;Yuji Higuchi;Nobuki Ozawa;and Momoji Kubo
