90度回転メタルマスク法により作製した広帯域光源用4色量子ドットの光学評価
90度回転メタルマスク法により作製した広帯域光源用4色量子ドットの光学評価
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90度旋转金属掩模法制备的宽带光源四色量子点的光学评估
DOI:
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
竹内晃一,尾崎信彦,大河内俊介,池田直樹,杉本喜正,浅川潔,Richard Hogg
中科院分区:
文献类型:
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作者:
T. Ishiyama;T. Fujii;Y. Ishii;M. Fukuda;堀田哲郎;T. Kanki;竹内晃一,尾崎信彦,大河内俊介,池田直樹,杉本喜正,浅川潔,Richard Hogg