A. Ito: "Ion-beam annealing of electron traps in n-type Si indeced by post H^+ implantation" J. Appl. Phys.82・3. 1053-1057 (1997)
A. Ito: "Ion-beam annealing of electron traps in n-type Si indeced by post H^+ implantation" J. Appl. Phys.82・3. 1053-1057 (1997)
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A. Ito：“通过后 H^+ 注入对 n 型 Si 中的电子陷阱进行离子束退火”J. Appl. 1053-1057 (1997)
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