Preparation of carbonaceous thin films by plasma-assisted chemical vapor deposition using active fluorine atoms
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活性氟原子等离子体辅助化学气相沉积制备碳质薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Z. Ogumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Fukutsuka;Y. Matsuo;Y. Sugie;T. Abe;and Z. Ogumi
