Electrodeposition of Aluminum–Tungsten Alloy Films Using EMIC–AlCl<sub>3</sub>–W<sub>6</sub>Cl<sub>12</sub> Ionic Liquids of Different Compositions
Electrodeposition of Aluminum–Tungsten Alloy Films Using EMIC–AlCl<sub>3</sub>–W<sub>6</sub>Cl<sub>12</sub> Ionic Liquids of Different Compositions
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不同成分EMIC-AlCl<sub>3</sub>-W<sub>6</sub>Cl<sub>12</sub>离子液体电沉积铝钨合金薄膜
DOI：
10.2320/matertrans.m2018051
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发表时间：
2018
影响因子：
1.2
通讯作者：
Hirato Tetsuji
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Higashino Shota;Miyake Masao;Fujii Hisashi;Takahashi Ayumu;Kasada Ryuta;Hirato Tetsuji
