Atomic layer etching with gas cluster ion beam irradiation in reactive gas vapor
Atomic layer etching with gas cluster ion beam irradiation in reactive gas vapor
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反应气体蒸气中气体团簇离子束照射的原子层蚀刻
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Isao Yamada
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Noriaki Toyoda;Akihiro Ogawa;Isao Yamada
