Radical-Enhanced ALD法によって形成したAlジャーマネイト/Ge界面とその近傍の欠陥評価
Radical-Enhanced ALD法によって形成したAlジャーマネイト/Ge界面とその近傍の欠陥評価
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自由基增强 ALD 法形成的 Al 锗石/Ge 界面及其附近的缺陷评估
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡本浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
成田英史;山田大地;福田幸夫;鹿糠洋介;岡本浩
