Growth of Zn_<1-x>Cd_xO films using remote plasma MOCVD
Growth of Zn_<1-x>Cd_xO films using remote plasma MOCVD
复制标题
使用远程等离子体 MOCVD 生长 Zn_<1-x>Cd_xO 薄膜
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J.Temmyo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J.Ishihara;A.Nakamura;S.Shigemori;T.Aoki;J.Temmyo
远程等离子体金属有机化学气相沉积中 ZnO 生长的 OH 自由基激活
影响因子：
1.5
作者：
A. Nakamura;S. Shigemori;Y. Shimizu;T. Aoki;A. Tanaka;J. Temmyo
通讯作者：
J. Temmyo