H.Iwano, K.Yoshikawa, S.Zaima and Y.Yasuda: ""Surface roughness of strain-relaxd Si_<1-x>Ge_x layrs grown by two-step growth method"" Thin Solid Films. (in press).
H.Iwano, K.Yoshikawa, S.Zaima and Y.Yasuda: ""Surface roughness of strain-relaxd Si_<1-x>Ge_x layrs grown by two-step growth method"" Thin Solid Films. (in press).
复制标题
H.Iwano、K.Yoshikawa、S.Zaima 和 Y.Yasuda：“通过两步生长法生长的应变松弛 Si_<1-x>Ge_x 层的表面粗糙度””固体薄膜。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
