Deposition of monoatomic and compound metal layers by the dynamic ion mixing
Deposition of monoatomic and compound metal layers by the dynamic ion mixing
复制标题
通过动态离子混合沉积单原子和化合物金属层
DOI：
10.1016/j.vacuum.2005.01.033
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
P. Żukowski
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
E. Bojko;C. Karwat;K. Kiszczak;M. Kolasik;T. Kołtunowicz;F. Komarov;A. Komarov;C. Kozak;A. Wdowiak;P. Żukowski
