Static Vapor Pressure Measurement of Low Volatility Precursors for Molecular Vapor Deposition Below Ambient Temperature

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DOI：
10.1002/1521-3862(200101)7:1
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发表时间：
2001
期刊：
Chemical Vapor Deposition
影响因子：
--
通讯作者：
T. Ohta;F. Cicoira;P. Doppelt;L. Beitone;P. Hoffmann
T. Ohta;F. Cicoira;P. Doppelt;L. Beitone;P. Hoffmann
中科院分区：
物理3区
文献类型：
--
作者：
T. Ohta;F. Cicoira;P. Doppelt;L. Beitone;P. Hoffmann

文献摘要

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关键词： [NRG] 注：\\Atlantis\MAD\MAD public\Publi Present Conferences\Publications\printed papers\2001 : NRG Ohta 2001 115 参考文献 LOA-ARTICLE-2001-016doi:10.1002/1521-3862(200101)7:1 3.0.CO;2-Y 记录创建于2009-07-20，2017-05-10修改
Keywords: [NRG] Note: \\Atlantis\MAD\MAD public\Publi Present Conferences\Publications\printed papers\2001 : NRG Ohta 2001 115 Reference LOA-ARTICLE-2001-016doi:10.1002/1521-3862(200101)7:1 3.0.CO;2-Y Record created on 2009-07-20, modified on 2017-05-10