AFM measurement of atomic-scale Si surface etching by active oxidation
AFM measurement of atomic-scale Si surface etching by active oxidation
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AFM 测量活性氧化原子级硅表面蚀刻
DOI：
10.1016/j.susc.2010.05.005
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Ota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Morita;S. Migita;W. Mizubayashi;H. Ota
