ナノインデント法で結晶化させたSi薄膜の微細構造評価
ナノインデント法で結晶化させたSi薄膜の微細構造評価
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纳米压痕法晶化硅薄膜的微观结构评价
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮尾正信
中科院分区：
文献类型：
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作者：
村田大輔;板倉賢;西田稔;佐道泰造;宮尾正信
