Study on crystallographic and electronic properties of amorphous carbon films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition
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复制标题
等离子体增强化学气相沉积非晶碳薄膜的晶体学和电子性能研究
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Hori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
L. Jia;H. Sugiura;H. Kondo;K. Takeda;K. Ishikawa;M. Sekine;M. Hori
