Redox behavior of Acceptor-Doped TiO2 Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
Redox behavior of Acceptor-Doped TiO2 Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
复制标题
脉冲激光沉积制备受主掺杂 TiO2 薄膜的氧化还原行为
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hitoshi Takamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ishii Akihiro;Itaru Oikawa;Hitoshi Takamura
