Behavior of Various Organosilicon Molecules in PECVD Processes for Hydrocarbon-doped Silicon Oxide Films
Behavior of Various Organosilicon Molecules in PECVD Processes for Hydrocarbon-doped Silicon Oxide Films
复制标题
碳氢化合物掺杂氧化硅薄膜 PECVD 工艺中各种有机硅分子的行为
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
O.Takai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.S.Yun;T.Yoshida;N.Shimazu;Y.Inoue;N.Saito;O.Takai
