Thermal Stability and Scalability of Mictamict Ti-Si-N Metal-Oxide-Semiconductor Gate Electrodes
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混态 Ti-Si-N 金属氧化物半导体栅电极的热稳定性和可扩展性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Shigeaki Zaima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hiroki Kondo;Kouhei Furumai;Mitsuo Sakashita;Akira Sakai;and Shigeaki Zaima
