High speed photoresist removal using slot-excited atmospheric-pressure microwave O2/CF4 plasma
High speed photoresist removal using slot-excited atmospheric-pressure microwave O2/CF4 plasma
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使用槽激发常压微波 O2/CF4 等离子体高速去除光刻胶
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tsuyoshi Honda and Hirotaka Toyoda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shota Ishikaw;Haruka Suzuki;Tsuyoshi Honda and Hirotaka Toyoda
