表面増強ラマン分光法による反応性ナノ粒子を用いたCu-CMPの化学的研磨作用分析
表面増強ラマン分光法による反応性ナノ粒子を用いたCu-CMPの化学的研磨作用分析
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使用表面增强拉曼光谱分析使用反应性纳米粒子的 Cu-CMP 的化学抛光作用
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
旭真史，高谷裕浩，水谷康弘
中科院分区：
文献类型：
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作者：
松本崇;藤原弘;宮本博之, 田中達也;旭真史，高谷裕浩，水谷康弘
