Prediction of resist sensitivity for extreme ultraviolet lithography at 6.x nm wavelength
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6.x nm 波长极紫外光刻抗蚀剂灵敏度的预测
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. G. Oyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大山智子;日名田暢;長澤尚胤;大島明博;鷲尾方一;田川精一;田口光正;T. G. Oyama;T. G. Oyama;T. G. Oyama
