Evidence of Direct SiO_2 Etching by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment
Evidence of Direct SiO_2 Etching by Fluorocarbon Molecules under Ion Bombardment
复制标题
离子轰击下氟碳分子直接刻蚀SiO_2的证据
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Sugai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N.Takada;H.Toyoda;I.Murakami;H.Sugai
