疑似太陽光照射下での光フェントン反応からのヒドロキシルラジカルの生成と消失過程
疑似太陽光照射下での光フェントン反応からのヒドロキシルラジカルの生成と消失過程
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模拟太阳光照射下光芬顿反应羟基自由基的产生和消失过程
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松田 麻位
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Issei;K. Hayashi;Y. Igarashi;H. Takahashi;Y. Sawa;N. Ogura;T. Akagi;Y. Dokiya;松田 麻位
