Effect of temperature on the preparation of MoO2 thin films by a mist CVD method
Effect of temperature on the preparation of MoO2 thin films by a mist CVD method
复制标题
温度对雾气CVD法制备MoO2薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Tetsuji Hirato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yuya Matamura;Takumi Ikenoue;Masao Miyake;and Tetsuji Hirato
