Effect of nitrogen contained in a-C:H film deposition for cell behavior
Effect of nitrogen contained in a-C:H film deposition for cell behavior
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a-C:H 薄膜沉积中所含氮对电池行为的影响
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Ohgoe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Nakazato;N. Miyata;T. Miyazaki;N. Tatsumi;T. Yaguchi;A. Homma;K. Hirakuri;Y. Ohgoe
