Modifications of ion beam sputtered tantala thin films by secondary argon and oxygen bombardment
Modifications of ion beam sputtered tantala thin films by secondary argon and oxygen bombardment
复制标题
二次氩氧轰击离子束溅射氧化钽薄膜的改性
DOI：
10.1364/ao.59.00a150
复制
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.9
通讯作者：
Menoni, Carmen
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yang, Le;Randel, Emmett;Vajente, Gabriele;Ananyeva, Alena;Gustafson, Eric;Markosyan, Ashot;Bassiri, Riccardo;Fejer, Martin;Menoni, Carmen
