電流注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析
電流注入ストレスを加えたゲート酸化膜の電流検出型原子間力顕微鏡による解析
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使用电流检测原子力显微镜分析受到电流注入应力的栅氧化膜
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
安田幸夫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
世古明義;渡辺行彦;近藤博基;酒井朗;財満鎭明;安田幸夫
