Electrical breakdown characteristics of MgO films deposited by RF magnetron sputtering and its dependence on process gas pressure
Electrical breakdown characteristics of MgO films deposited by RF magnetron sputtering and its dependence on process gas pressure
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射频磁控溅射沉积 MgO 薄膜的电击穿特性及其对工艺气压的依赖性
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Baba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Kosone;Y. Nakagawa;K. Arai;T. Nakano;S. Baba
