M.Watanabe,et.al: "Epitaxial Growth of Metal(CoSi2)/Insulator(CaF2) Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111)" Japanese Journal of Applied Physics. 31. L116-L118 (1992)
M.Watanabe,et.al: "Epitaxial Growth of Metal(CoSi2)/Insulator(CaF2) Nanometer-Thick Layered Structure on Si(111)" Japanese Journal of Applied Physics. 31. L116-L118 (1992)
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M.Watanabe 等人：“Si(111) 上金属（CoSi2）/绝缘体（CaF2）纳米厚层状结构的外延生长”日本应用物理学杂志。
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