High-performance transmon qubits with an epitaxially grown TiN film on Si (100) substrate
High-performance transmon qubits with an epitaxially grown TiN film on Si (100) substrate
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在 Si (100) 衬底上外延生长 TiN 薄膜的高性能传输量子位
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yasunobu Nakamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Atsushi Noguchi;Shotaro Shirai;Shuhei Tamate;Alexander Badrutdinov;Shion Chen;Toshiaki Inada;Tatsumi Nitta;Shoji Asai;Yuji Hishida;Hirotaka Terai;Yasunobu Nakamura
