Interband Tunncling through Individual Dopants in Nanoscale pn Junctions
Interband Tunncling through Individual Dopants in Nanoscale pn Junctions
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通过纳米级 pn 结中的单个掺杂剂实现带间隧道
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Michiharu Tabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hoang Nhat Tan;Purwiyanti Sri;Daniel Moraru;Le The Anh;Muruganathan Manoharan,Takeshi Mizuno;Hiroshi Mizuta;Hartanto Djoko;Michiharu Tabe
