近接場光を用いたナノインプリント残膜測定法に関する研究(第3報)-偏光特性を利用した残膜厚計測-
近接場光を用いたナノインプリント残膜測定法に関する研究(第3報)-偏光特性を利用した残膜厚計測-
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利用近场光的纳米压印残膜测量方法的研究（第3次报告）-利用偏振特性的残膜厚度测量-
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高増 潔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
南口 修一;臼杵 深;高橋 哲;高増 潔
