パルスレーザー堆積法により作製したSiCN薄膜の構造と機械的性質
パルスレーザー堆積法により作製したSiCN薄膜の構造と機械的性質
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脉冲激光沉积法制备SiCN薄膜的结构与力学性能
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
河原碩仁 ・ 伊藤公秀 ・ 青井芳史 ・ 野瀬正照
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Asoh Hidetaka;Mizota Kanako;Kokubo Yuuka;河原碩仁 ・ 伊藤公秀 ・ 青井芳史 ・ 野瀬正照
