その場X線回折法によるNiO薄膜から壁状構造への変化過程の活性化エネルギーの評価
その場X線回折法によるNiO薄膜から壁状構造への変化過程の活性化エネルギーの評価
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使用原位 X 射线衍射法评估 NiO 薄膜向壁状结构转变过程中的活化能
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉本 護
中科院分区：
文献类型：
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作者：
坂田修身;松田晃史;吉本 護
