Post-annealing recrystallization and damage recovery process in Fe ion implanted Si
Post-annealing recrystallization and damage recovery process in Fe ion implanted Si
复制标题
Fe离子注入Si的退火后再结晶及损伤恢复过程
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Y. Hirotsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Naito;A. Hirata;M. Ishimaru;and Y. Hirotsu
