Fungal sterilization using microwave-induced argon plasma at atmospheric pressure
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在大气压下使用微波诱导氩等离子体进行真菌灭菌
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Jong Chul Park et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Hasegawa;Y.Yoshida;J.Kosuge;T.Haga;Y.Goto;T.Shinjo;K.Uchida;R.Yamaguchi;S.Takeyama;K.Takatori;高鳥浩介;高鳥浩介;高鳥浩介ら;Jong Chul Park et al.
