Characterization of sputtered and annealed niobium oxide films using spectroscopic ellipsometry, Rutherford backscattering spectrometry and X-ray diffraction
Characterization of sputtered and annealed niobium oxide films using spectroscopic ellipsometry, Rutherford backscattering spectrometry and X-ray diffraction
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使用光谱椭圆光度法、卢瑟福背散射光谱法和 X 射线衍射表征溅射和退火氧化铌薄膜
DOI：
10.1016/j.tsf.2008.04.070
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
N. Khánh
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Serényi;T. Lohner;P. Petrik;Z. Zolnai;Z. Horváth;N. Khánh
