BIONANO CRYSTALLIZED POLY-SI FILM FOR INCREASING TENSILE STRESS IN MEMS/NEMS DEVICE STRUCTURES
BIONANO CRYSTALLIZED POLY-SI FILM FOR INCREASING TENSILE STRESS IN MEMS/NEMS DEVICE STRUCTURES
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用于增加 MEMS/NEMS 器件结构拉伸应力的 BIONANO 结晶多晶硅薄膜
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Sasaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Kumagai;S.Miyachi;I.Yamashita;Y.Uraoka;M.Sasaki
