Work function and electronic structure measurements on nitrogen-doped LaB6 thin film prepared by RF sputtering deposition
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射频溅射沉积氮掺杂 LaB6 薄膜的功函数和电子结构测量
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Ohmi,
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Nagaoka;and S. Ohmi,
