中村圭二名: "Chamber Wall Control by Ion Bombardment in Oxide Etcher" Proceeding of Symposium on Dry Process.1巻. 269-274 (1998)
中村圭二名: "Chamber Wall Control by Ion Bombardment in Oxide Etcher" Proceeding of Symposium on Dry Process.1巻. 269-274 (1998)
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Keiji Nakamura：“氧化物蚀刻机中离子轰击的室壁控制”干法研讨会论文集.卷 1. 269-274 (1998)
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