La-Oxide Thin Films Formed by MOCVD Using La(TMOD)3
La-Oxide Thin Films Formed by MOCVD Using La(TMOD)3
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使用 La(TMOD)3 通过 MOCVD 形成 La-氧化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Miyazaki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Yougauchi;A. Ohta;H. Murakami;S. Higashi;S. Miyazaki
