Gas flow sputtering : a versatile process for the growth of nanoparticles, nanopillars, and epitaxial thin films

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气流溅射:一种用于纳米颗粒、纳米柱和外延薄膜生长的通用工艺

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
K. Ishii
K. Ishii
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
H. Sakuma;K. Ishii

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