Vacancy formation energy at matal-silocon interface region
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金属-硅界面区域的空位形成能
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
A.Kasuya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Suezawa;K.Sato;K Kojima;A.Kasuya
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