K.Tominaga,M.Shirai and H.Imai: "Rective Planar Magnetron Sputtering System with obliquely Facing Targets of Zn" Jpn.J.Appl.Phys.30. 2216-2219 (1991)
K.Tominaga,M.Shirai and H.Imai: "Rective Planar Magnetron Sputtering System with obliquely Facing Targets of Zn" Jpn.J.Appl.Phys.30. 2216-2219 (1991)
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K.Tominaga、M.Shirai 和 H.Imai：“具有斜向 Zn 靶材的反射平面磁控溅射系统”Jpn.J.Appl.Phys.30。
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