Effects of gas flow rate on diamond deposition in a microwave plasma reactor
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DOI：
10.1016/j.tsf.2006.08.007
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发表时间：
2006-12
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
W. Chen;X. Lu;Qiaoqin Yang;C. Xiao;R. Sammynaiken;M. Jm;A. Hirose
中科院分区：
文献类型：
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作者：
W. Chen;X. Lu;Qiaoqin Yang;C. Xiao;R. Sammynaiken;M. Jm;A. Hirose
