Improved photoelectrocatalytic properties of ZnO/CuWO4 heterojunction film for RhB degradation
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DOI：
10.1016/j.jphotochem.2020.112778
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发表时间：
2020-10
影响因子：
4.3
通讯作者：
J. P. Moura;R. Reis;A. Lima;R. Santos;G. E. Luz
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. P. Moura;R. Reis;A. Lima;R. Santos;G. E. Luz
