K.SASAKI, K.KAWAI, T.HASU, M.YABUUCHI, T.HATA: "Feasibility of Ultra-thin Films for Gate Insulator by Limited Reaction Sputtering Process"IEICE Transactions on Electronics. E87-C[2]. 218-222 (2004)
K.SASAKI, K.KAWAI, T.HASU, M.YABUUCHI, T.HATA: "Feasibility of Ultra-thin Films for Gate Insulator by Limited Reaction Sputtering Process"IEICE Transactions on Electronics. E87-C[2]. 218-222 (2004)
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K.SASAKI、K.KAWAI、T.HASU、M.YABUUCHI、T.HATA：“有限反应溅射工艺用于栅极绝缘体的超薄膜的可行性”IEICE Transactions on Electronics。
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