Self-formation of Ti-rich interfacial layers at Cu(Ti)/low-k interfaces
Self-formation of Ti-rich interfacial layers at Cu(Ti)/low-k interfaces
复制标题
Cu(Ti)/低k界面处自形成富钛界面层
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Maekawa and M. Murakami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Kohama;K. Ito;S. Tsukimoto;K. Mori;K. Maekawa and M. Murakami
