MEASUREMENT OF CONTACT POTENTIAL DIFFERENCES BY ELECTRON INTERFEROMETRY
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通过电子干涉仪测量接触电位差
DOI：
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发表时间：
1964
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
W. Rothemund
中科院分区：
文献类型：
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作者：
E. Krimmel;G. Möllenstedt;W. Rothemund
