高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法
高速噴流を利用したプラズマCVDの新規高速製膜手法
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使用高速射流的等离子体 CVD 的新型高速薄膜沉积方法
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
栗林志頭眞
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西田哲;納土亮;牟田浩司;栗林志頭眞
