de Haas?van Alphen Effect and Fermi Surface Properties in Single-Crystalline ThCu2Si2
de Haas?van Alphen Effect and Fermi Surface Properties in Single-Crystalline ThCu2Si2
复制标题
单晶 ThCu2Si2 中的德哈斯范阿尔芬效应和费米表面性质
DOI：
10.7566/jpsj.89.094703
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发表时间：
2020
影响因子：
1.7
通讯作者：
Aoki Dai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Nakamura Ai;Honda Fuminori;Homma Yoshiya;Li Dexin;Shimizu Yusei;Maurya Arvind;Sato Yoshiki J.;Harima Hisatomo;?nuki Yoshichika;Aoki Dai
